1.数据中心服务器/AI超算/GPU芯片
浸没式冷却：氟化液（如FC-40、Novec-7200）直接浸没服务器硬件，通过高热传导性（接近水的热导率）和低表面张力实现高效散热，相比风冷节能85%以上，PUE值可降至1.1以下。
动态冷却：在芯片老化测试中，氟化液快速吸收瞬态热负荷，确保测试精度和设备稳定性。
2.半导体Chiller冷却机
作为制冷剂用于光刻机、蚀刻机等设备的恒温控制（±0.1℃精度），其热稳定性（液程范围-57~165℃）确保极端温度下的可靠运行。
3.等离子蚀刻（Plasma Etching）与CVD设备
电极冷却：氟化液（如FC-40）通过单相或双相循环冷却电极，防止高温等离子体导致的设备变形，其不导电特性避免电路短路。
反应腔体控温：在化学气相沉积（CVD）中维持反应温度均匀性，材料兼容性（与金属/塑料兼容）减少设备腐蚀风险。
4.离子注入机与测试设备
氟化液（如Novec-7100）用于冷却高能离子束生成部件，其化学惰性防止与敏感元件发生反应。
5.单/双相冷却系统
单相系统：FC-40凭借窄沸程（成分稳定）和高介电强度，用于半导体冷板冷却，减少流体损失。
双相系统：Novec-7200通过蒸发-冷凝循环被动散热（无需额外能耗），适用于高密度GPU矿机和AI芯片散热。
6.热管与微通道冷却
低表面张力特性使氟化液渗透至微观缝隙，实现芯片级精准散热覆盖。
1.不导电：高介电强度（如FC-40介电强度>40kV）防止电流泄漏，保障设备安全。
2.热稳定：宽工作温度范围（-90~200℃）适应极端环境，沸点高达165℃（FC-40）确保高温不分解。
3.材料兼容性：与金属、塑料、密封材料兼容，长期使用无腐蚀或溶胀
气相去污与湿式清洁：Novec-7100/7200混合喷雾用于晶圆表面去污，结合去离子水浴实现高效清洁。
润滑剂沉积与分解：Novec-7200在硬盘制造中分解PFPE润滑剂，同时减少蒸气损失
去除光刻胶残留与微粒污染
光刻胶残留：Novec-7200能有效分解氟素油和全氟聚醚（PFPE）润滑剂，这类物质常与光刻胶残留相关，其高润湿性可剥离顽固污染物。
微粒污染：Novec-7100通过极性溶解力清除金属和玻璃表面的颗粒物，而Novec-7200专为微颗粒物质（如灰尘、毛纤）和轻质油污设计，尤其适合半导体制程中的轻度脏污。
1. 氟化液低表面张力、高强渗透能力的溶剂使其能够深入晶圆、电子元件等精密结构的微米级缝隙，实现无死角清洁。在硬盘润滑剂沉积（如分解全氟聚醚PFPE）和晶圆传送盒（FOUP）净化中表现出色，尤其适用于复杂几何形状的深度冲洗。
2.严格管控离子、金属和非挥发性残留物，配合低表面能涂层（如EGC-1700）可进一步防止离子污染，适用于印刷电路板等精密场景。在清洗过程中不会引入二次污染，同时符合电子行业对离子残留的严苛要求。
1.防污特性：通过活性硅烷基团与有机氟基团的结合，UD509、KY-1950信越等型号可有效防止指纹、墨水污渍附着，且指纹可通过擦拭轻松去除。
2.疏水疏油性：UD509大金等型号形成疏水疏油表面，保持基材清洁，适用于玻璃、不锈钢等材质。
3.超薄膜保护：KY-1950信越等型号以纳米级超薄膜涂层覆盖基材，在实现防污功能的同时，完整保留基材原有的光学特性（如透光率）和表面纹理质地，避免传统涂层对微观结构的破坏。
4.耐久性：低动摩擦系数设计既便于清洁，又能防止擦拭过程中的表面划伤，延长基材使用寿命。
5.多功能防护：KY-1950信越等型号作为UV硬化型纳米透明涂料原液，兼具防油、防污、耐磨及疏水疏油特性，适用于半导体硅片、电子显示屏等精密表面。
6.工业级稳定性：UD509大金等型号具备抗静电、耐碱汗及抗UV性能，确保在半导体制造和终端应用中长期稳定。
1.光学保护：透明涂层不会改变基材的透光性和反光特性，尤其适合需要维持高光学性能的半导体器件和显示组件。
2.纹理兼容性：通过纳米级涂覆技术，在不增加表面厚度的前提下，完整保留硅片或玻璃基材的微观纹理与触感，避免因涂层导致的表面粗糙度变化。
1.优异的静电消散性能：FC-4400通过离子液体结构（四级铵盐阳离子与亚酰胺阴离子）实现高效电荷中和，将材料表面电阻降至10^9–10^12 Ω/sq，显著降低静电积累风险。这一特性可防止静电吸附灰尘或颗粒，避免因静电放电导致的元件损伤。
2.持久性与环境适应性：FC-4400为疏水型离子液体，低含水量使其在低湿度条件下仍保持抗静电效果，且耐水洗，适用于洁净室长期使用。此外，其表面电阻在宽湿度范围内稳定，适应半导体制造中的严格环境要求。
3.光学透明性：FC-4400不含金属和卤素离子，与聚合物体系兼容性佳，添加量仅需1-5%即可达到抗静电效果，且不影响材料透明度，适用于需要光学性能的液晶面板保护膜、感压胶等场景。
4.高温加工稳定性：熔点27℃，热稳定性高达340℃，可耐受注塑、热熔挤出等高温工艺，避免常规抗静电剂因分解导致的变色或产气问题。
5.晶圆载具与托盘：抗静电塑料通过添加FC-4400，用于制造晶圆盒、光罩盒、真空吸笔等工具，防止静电在搬运、存储过程中损伤芯片。
6.洁净室环境控制：降低塑料部件表面静电可减少尘埃吸附，避免光刻和蚀刻工序中的微尘污染，提升晶圆良率。
1.表面处理与导电填料：相较于掺入金属粉或炭黑的导电材料，FC-4400通过离子迁移实现电荷消散，避免影响材料机械性能，更适合精密电子元件保护。
2.防静电液局限性：临时性防静电涂层（如表面吸湿膜）需频繁补涂，而FC-4400作为内添加剂的耐久性更优，适用于长期使用的塑料部件
